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離子束濺射系統(tǒng)

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公司新聞

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  • 磁控濺射系統(tǒng)靶中毒的現(xiàn)象和解決辦法

    一：磁控濺射系統(tǒng)靶中毒現(xiàn)象(1)正離子堆積：靶中毒時(shí)，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧，使陰極濺射無(wú)法進(jìn)行下去。（2）陽(yáng)極消失：靶中毒時(shí)，接地
    發(fā)布時(shí)間：2022-11-21   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的環(huán)保特性

    磁控濺射系統(tǒng)能夠有效的提高產(chǎn)品的質(zhì)量，特別是使用在一些金屬材質(zhì)上的時(shí)候，其不僅能夠讓其具備絕緣的效果，還能夠提水抗腐蝕程度的水平。在目前的市場(chǎng)中磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備適用于電子、機(jī)械、建筑和其他領(lǐng)域的金屬及介電涂層市場(chǎng)的很大一部分份額。該設(shè)備是對(duì)
    發(fā)布時(shí)間：2022-10-28   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的常見故障及解決辦法

    磁控濺射是物理氣相堆積的一種,磁控濺射系統(tǒng)通過(guò)在靶陰極外表引入磁場(chǎng)，使用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射鍍膜工藝在日常操作過(guò)程中有哪些常見的毛病呢？磁控濺射鍍膜常見毛病及解決辦法1.無(wú)法起輝（1）直流電源毛病，查
    發(fā)布時(shí)間：2022-08-16   

  • 離子束濺射系統(tǒng)在鋁型材上的應(yīng)用

    離子束濺射系統(tǒng)是專業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁的專用設(shè)備，它成膜速率快，膜層牢固，色澤鮮亮，膜層不易受污染，電鍍?cè)O(shè)備可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對(duì)環(huán)境的污染，是大規(guī)模生產(chǎn)的理想設(shè)備。設(shè)備應(yīng)用廣泛，主要有汽車反
    發(fā)布時(shí)間：2022-07-30   

  • 磁控濺射技術(shù)是常用的！

    磁控濺射技術(shù)是常用的！磁控濺射技術(shù)是常用的一種物理氣相沉積技術(shù)。磁控濺射鍍膜機(jī)可用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料，具有設(shè)備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，因此被廣泛使用。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵】梢姽獠ǘ危宏帢O
    發(fā)布時(shí)間：2022-05-31   

  • 磁控濺射鍍膜儀的特點(diǎn)！

    磁控濺射鍍膜儀的特點(diǎn)！磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！磁控濺射是物理氣相沉積（PhysicalVap
    發(fā)布時(shí)間：2022-05-31   

  • 磁控濺射鍍膜儀的種類

    磁控濺射鍍膜儀的種類磁控濺射品種磁控濺射包括很多品種。各有不同作業(yè)原理和使用目標(biāo)。但有一共同點(diǎn)：使用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶外表鄰近成螺旋狀運(yùn)轉(zhuǎn)，然后增大電子撞擊氬氣發(fā)生離子的概率。所發(fā)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面然后濺射出靶材。靶源
    發(fā)布時(shí)間：2022-04-20   

  • 磁控濺射鍍膜儀的原理！

    磁控濺射鍍膜儀的原理！磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn)：利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行，從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?！用磁控靶源濺射金屬和合金很容易
    發(fā)布時(shí)間：2022-04-19   

  • 磁控濺射鍍膜設(shè)備原理及發(fā)展起源

    磁控濺射鍍膜設(shè)備的工作原理要從一開始的“濺射現(xiàn)象”說(shuō)起。人們由起初發(fā)覺(jué)“濺射現(xiàn)象”發(fā)展至“濺射鍍膜”此間歷經(jīng)了相當(dāng)長(zhǎng)的發(fā)展時(shí)間，濺射現(xiàn)象早在19世紀(jì)50年代的法拉第氣體放電實(shí)驗(yàn)就已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了。不過(guò)當(dāng)時(shí)還只將此現(xiàn)象作為一種避免范疇的研究，認(rèn)為這
    發(fā)布時(shí)間：2022-03-23   

  • 磁控濺射設(shè)備是在兩濺射的基礎(chǔ)上開發(fā)的

    磁控濺射設(shè)備對(duì)環(huán)境友好，耗材少，成膜均勻細(xì)密，與基體的結(jié)合力強(qiáng)。和傳統(tǒng)的鍍膜辦法比較，磁控濺射鍍膜設(shè)備具有許多的長(zhǎng)處，如裝修效果好，金屬質(zhì)感強(qiáng)，易于操作等。特別在非金屬物件的應(yīng)用上，有著傳統(tǒng)電鍍無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì)。磁控濺射體系的作業(yè)原理是電子在
    發(fā)布時(shí)間：2022-03-02   

  • 磁控濺射鍍膜儀技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用

    磁控濺射鍍膜儀技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過(guò)粒子動(dòng)量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜技術(shù)具有可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積，薄膜與基體結(jié)合力好，濺射密度高、針孔少，膜層
    發(fā)布時(shí)間：2022-02-18   

  • 磁控濺射鍍膜儀技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)

    磁控濺射鍍膜儀技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)等離子體濺射的基本過(guò)程是負(fù)極的靶材在位于其上的等離子體中的載能離子作用下，靶材原子從靶材濺射出來(lái)，然后在襯底上凝聚形成薄膜；在此過(guò)程中靶材表面同時(shí)發(fā)射二次電子，這些電子在保持等離子體穩(wěn)定存在方面具有關(guān)鍵作用。濺射技
    發(fā)布時(shí)間：2022-02-10   

  • 淺談離子束濺射系統(tǒng)應(yīng)用的幾個(gè)特點(diǎn)

    淺談離子束濺射系統(tǒng)應(yīng)用的幾個(gè)特點(diǎn)鍍層附著性能好普通真空鍍膜時(shí)，蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴(kuò)散深度通常僅為幾百個(gè)埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說(shuō)比一根頭發(fā)絲的百分
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   

  • 離子束濺射系統(tǒng)維護(hù)的好處

    不管是什么機(jī)械產(chǎn)品，想要長(zhǎng)久地使用下去，以及在日常使用中有著優(yōu)良的性能，對(duì)于其日常的保養(yǎng)維護(hù)肯定是必不可少的。今天給大家說(shuō)說(shuō)離子束濺射系統(tǒng)日常保養(yǎng)和維護(hù)的好處。一般根據(jù)說(shuō)明書保養(yǎng)和維護(hù)的離子束濺射系統(tǒng)，能有效地延長(zhǎng)離子束濺射系統(tǒng)的使用壽命，
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   

  • 離子束濺射系統(tǒng)的實(shí)際應(yīng)用

    離子束濺射系統(tǒng)的應(yīng)用范圍主要可以分為兩大類，一類為工具類產(chǎn)品的鍍膜，一類為裝飾鍍膜。對(duì)于前者的鍍膜，有著延長(zhǎng)其使用壽命的作用，對(duì)于后者則更多的是表面裝飾。工具類鍍膜以刀具為例，在其硬質(zhì)合金打造的刀身表面進(jìn)行離子鍍膜之后，其表面的硬度和自潤(rùn)滑
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點(diǎn)

    真空鍍膜工藝分為多種，包括有真空磁控濺射鍍膜，蒸發(fā)鍍以及光學(xué)離子鍍?，F(xiàn)在主要來(lái)講講磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點(diǎn)是什么，讓大家對(duì)這個(gè)電鍍工藝有所了解，對(duì)產(chǎn)品電鍍的選用工藝有所幫助。首先，真空磁控濺射鍍膜通常應(yīng)用在金屬產(chǎn)品上面，原理為在電場(chǎng)作用
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的原理是什么？

    磁控濺射系統(tǒng)的原理是稀薄氣體在反常輝光放電發(fā)生的等離子體在電場(chǎng)的效果下，對(duì)陰極靶材外表進(jìn)行炮擊，把靶材外表的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái)，被濺射出來(lái)的粒子帶有必定的動(dòng)能，沿必定的方向射向基體外表，在基體表面構(gòu)成鍍層。濺射鍍膜開
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜儀靶材的主要方法

    由于磁控濺射鍍膜儀的難點(diǎn)是靶材表面的磁場(chǎng)達(dá)不到正常磁控濺射時(shí)要求的磁場(chǎng)強(qiáng)度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強(qiáng)度，以達(dá)到正常濺射工作對(duì)靶材表面磁場(chǎng)大小的要求。實(shí)現(xiàn)的途徑主要有以下幾種：a、靶材設(shè)計(jì)與改進(jìn)b、增強(qiáng)磁控濺射陰極的磁場(chǎng)c、
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜儀技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用

    近年來(lái)，隨著新材料的開發(fā)，尤其是薄膜材料的發(fā)展和應(yīng)用，帶動(dòng)控濺射沉積技術(shù)的飛速發(fā)展，在科學(xué)研究領(lǐng)域和工業(yè)生產(chǎn)中有著不可替代的重要作用。本文主要介紹了控濺射沉積鍍膜技術(shù)的工藝過(guò)程及其發(fā)展情況，各種主要磁控濺射鍍膜儀的特點(diǎn)，并介紹磁控濺射技術(shù)在
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   

  • 蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜的區(qū)別

    真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子束濺射系統(tǒng)。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過(guò)表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   
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