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磁控濺射與離子束結合系統(tǒng)
多室磁控濺射與離子束
450高真空雙室磁控
550高真空雙室磁控
YCL-50-A磁控
YCL50-A磁控濺
磁控與離子束聯(lián)合濺射
磁控濺射系統(tǒng)
JGP-560型單室磁
450磁控濺射
臥式磁控濺射系統(tǒng)
矩形磁控籠式卷繞濺射
YJ-CL-560型雙
YJ-CL-450型單
雙室梨型磁控濺射系統(tǒng)
雙室磁控濺射系統(tǒng)
7靶磁控濺射系統(tǒng)
離子束鍍膜設備
YJL單室離子束鍍膜設
共濺薄膜制備系統(tǒng)
CKG-60三靶共濺
蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
DZS-500型電子
YJZF-S真空蒸發(fā)
真空熱壓設備
GYZ-350-10T真空熱
四室聯(lián)合系統(tǒng)
四室聯(lián)合系統(tǒng)
熱壓燒結爐
高真空熱壓燒結爐
JVPF-200真空熱壓燒
磁控鍍膜系統(tǒng)
超高真空磁控鍍膜系統(tǒng)
臥式磁控鍍膜系統(tǒng)
臥式磁控鍍膜系統(tǒng)
臥式磁控鍍膜系統(tǒng)
真空定向凝固爐
真空定向凝固爐
定向凝固設備
電子束蒸發(fā)聯(lián)合系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)聯(lián)合系統(tǒng)
DZS—500電子束蒸發(fā)
熱蒸發(fā)系統(tǒng)
YJ-ZF350A高
高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)
熱蒸發(fā)系統(tǒng)
離子清洗與電阻蒸發(fā)聯(lián)
PLD激光鍍膜設備
PLD-300型激光鍍膜設
激光鍍膜系統(tǒng)
電子束蒸發(fā)設備
DZS-500電子束蒸發(fā)設
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
感應熔煉設備
感應熔煉設備
硬碳鍍膜系統(tǒng)
FJL600型高真空
磁控離子束系統(tǒng)
磁控離子束系統(tǒng)
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大型工業(yè)性磁控系統(tǒng)
非平衡磁控離子注入系
單靶濺射與蒸發(fā)系統(tǒng)
臥試磁控450
臥試磁控450
臥試磁控450
沉寂系統(tǒng)
四室有機薄膜沉寂系統(tǒng)
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手動六工位沉寂系統(tǒng)
MBE系統(tǒng)
MBE系統(tǒng)
全自動一體化整機設備
高真空磁控濺射薄膜沉
新聞資訊
公司新聞
磁控濺射鍍膜儀技術的發(fā)展及應用
蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜的區(qū)別
濺鍍工藝的概念及分類
磁控濺射鍍膜儀靶材的主要方法
磁控濺射系統(tǒng)的原理是什么?
磁控濺射鍍膜的原理以及優(yōu)缺點
離子束濺射系統(tǒng)的實際應用
磁控濺射鍍膜儀的操作規(guī)范
離子束濺射系統(tǒng)維護的好處
淺談離子束濺射系統(tǒng)應用的幾個特點
行業(yè)新聞
磁控濺射鍍膜儀使用范圍
使用磁控濺射鍍膜儀設備對環(huán)境有什么要求嗎
主要的磁控濺射系統(tǒng)方式有哪些?
磁控濺射鍍膜儀設備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢
直流磁控濺射鍍膜儀設備優(yōu)劣分析
磁控濺射系統(tǒng)設備技術亮點
磁控濺射鍍膜儀設備鍍膜特征
磁控濺射系統(tǒng)設備的主要用途
磁控濺射系統(tǒng)設備綠色環(huán)保
磁控濺射系統(tǒng)設備技術應用
常見問題
淺談磁控濺射系統(tǒng)設備濺射種類
磁控濺射系統(tǒng)設備如何使用效率才高?
磁控濺射系統(tǒng)設備濺射機理解析
離子束濺射系統(tǒng)在鋁型材上的應用
在顆粒狀表面進行磁控濺射鍍膜儀是否可行
磁控濺射鍍膜儀應用廣泛
離子束濺射系統(tǒng)是一種新型的真空電鍍系統(tǒng)
淺談離子束濺射系統(tǒng)中的薄膜均勻性概念
離子束濺射系統(tǒng)常見的離子鍍類型及特點
淺析磁控濺射鍍膜儀鍍膜優(yōu)勢
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