北京YCL-50-A磁控與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

YCL-50-A磁控與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

◆設備用途

用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜、鐵磁膜和磁性薄膜等的制備?？蓮V泛應用于半導體、微電子及新材料領域。

◆設備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉臺、Kaufman離子槍、四工位轉靶、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。

◆技術指標

極限真空度：≤6.67×10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-7 Pa.l/S；停機12小時≤5Pa.

系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，45分鐘可達到6.67×10-4Pa；

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組成。

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