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離子束濺射系統(tǒng)

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廣州大型工業(yè)性磁控系統(tǒng)

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廣州大型工業(yè)性磁控系統(tǒng)

  • 詳細(xì)介紹

大型工業(yè)性磁控系統(tǒng)

大型工業(yè)性磁控系統(tǒng)

◆設(shè)備用途

用于納米級(jí)單層及多層功能膜、 硬質(zhì)膜、 金屬膜、 半導(dǎo)體膜、 介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、 科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、 磁控濺射靶、 基片水冷加熱臺(tái)、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 真空測(cè)量、 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。磁力送樣機(jī)構(gòu)、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 安裝機(jī)臺(tái)、 真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。

◆技術(shù)指標(biāo)

極限真空度:≤6.6x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂螅匍_(kāi)始抽氣,40分鐘可達(dá)到8.0x10-4 Pa;

停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5 Pa;

磁控濺射設(shè)備性能舉例:

1.用直流電源磁控沉積金屬Cu膜,可以制備出沉積速度40nm/min的膜層;同時(shí)小樣品的膜厚均勻性可以達(dá)到3%;可以在硬質(zhì)和柔性沉底生長(zhǎng)膜層;常溫也可以沉積Cu膜,不脫落,但是結(jié)合力不好;

2.用射頻電源磁控沉積氧化硅和氧化鋁膜層(等各頭氧化物薄膜),可以制備出沉積速度3—5nm/min的膜層;小樣品膜層厚度均勻性可以達(dá)到3%;膜層的介電性能較好;

系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片加熱公自轉(zhuǎn)臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。

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