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沈陽(yáng)宇杰真空設(shè)備有限公司
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多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)
◆設(shè)備用途
用于納米級(jí)單層及多層功能膜、 硬質(zhì)膜、 金屬膜、 半導(dǎo)體膜、 介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。
可廣泛應(yīng)用于大專院校、 科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
◆設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、 進(jìn)樣室、 永磁磁控濺射靶(三個(gè)靶)、 單基片加熱臺(tái)、 直流電源、
射頻電源、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 真空測(cè)量、 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。
◆技術(shù)指標(biāo)
◆技術(shù)指標(biāo)
極限真空度:≤6.8x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后);
系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;
系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂螅匍_(kāi)始抽氣,40分鐘可達(dá)到8.0x10-4 Pa;
停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤4Pa。
公司地址:遼寧省沈陽(yáng)市沈河區(qū)泉園街道 聯(lián)系電話:13555776988