沈陽宇杰真空設備有限公司
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多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)
◆設備用途
用于納米級單層及多層功能膜、 硬質膜、 金屬膜、 半導體膜、 介質膜等新型薄膜材料的制備。
可廣泛應用于大專院校、 科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
◆設備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、 進樣室、 永磁磁控濺射靶（三個靶）、 單基片加熱臺、 直流電源、
射頻電源、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 真空測量、 電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。
◆技術指標
◆技術指標
極限真空度：≤6.8x10-5 Pa (經烘烤除氣后)；
系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；
系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，40分鐘可達到8.0x10-4 Pa；
停泵關機12小時后真空度：≤4Pa。
