沈陽宇杰真空設備有限公司
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地址：遼寧省沈陽市沈河區(qū)泉園街道
◆設備用途
用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進
行薄膜材料的科研與小批量制備。
◆設備組成
主要由濺射真空室、旋轉靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測
量及電控系統(tǒng)等部分組成。
◆技術指標
1、極限真空度：≤8.0×10-5Pa (經烘烤除氣后)；
2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-8Pa.L/S；停機12小時≤5Pa.
3、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，45分鐘可達到6.6×10-4Pa；
4、系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組成。
