深圳多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

◆設(shè)備用途

用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。

可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、進(jìn)樣室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、

射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。

◆技術(shù)指標(biāo)

極限真空度：≤6.8x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；

系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，40分鐘可達(dá)到8.0x10-4 Pa；

停泵關(guān)機(jī)12小時后真空度：≤4Pa。

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