沈陽宇杰真空設備有限公司
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◆設備用途
該系統為高真空多功能離子束沉積系統, 系統可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導體、 介質復合膜等。 廣泛應用于大專院校、 科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
◆設備組成
系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片臺(客戶自備)、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成;
◆技術指標
1、極限真空度:≤5.0x10-5 Pa (經烘烤除氣后);
2、系統真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;
3、系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,40分鐘可達到6.0x10-4 Pa;
4、停泵關機12小時后真空度:≤2 Pa。