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離子束濺射系統(tǒng)

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重慶450磁控濺射

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重慶450磁控濺射

  • 詳細(xì)介紹

450磁控濺射

450磁控濺射

◆設(shè)備用途

用于納米級單層及多層功能膜、 硬質(zhì)膜、 金屬膜、 半導(dǎo)體膜、 介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、 科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、 磁控濺射靶、 基片水冷加熱臺、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 真空測量、 電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。磁力送樣機(jī)構(gòu)、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 安裝機(jī)臺、 真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。

◆技術(shù)指標(biāo)

極限真空度:≤6.6x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,40分鐘可達(dá)到8.0x10-4 Pa;

停泵關(guān)機(jī)12小時后真空度:≤5 Pa。

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