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離子束濺射系統(tǒng)

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  • [行業(yè)新聞] 磁控濺射系統(tǒng)是怎樣提高沉積速率的？

    磁控濺射系統(tǒng)提高沉積速率的原理：電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速
    發(fā)布時(shí)間：2021-06-04   點(diǎn)擊次數(shù)：55

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