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離子束濺射系統(tǒng)

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  • [公司新聞] 蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜的區(qū)別

    真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子束濺射系統(tǒng)。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到定溫度，使材料中分子或原子的熱振動(dòng)能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，
    發(fā)布時(shí)間：2019-05-10   點(diǎn)擊次數(shù)：342

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