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磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備在如今廣大行業(yè)中應(yīng)用非常的廣泛,那么其主要用途是什么呢?可能很多新用戶不是非常的了解,下面小編來給大家進(jìn)行講解一下。
磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備制備的濺射薄膜的特點(diǎn)
磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備的主要用途:
1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。
2.時裝裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用,比如說各種全反射鍍膜以及半透明鍍膜,可適用在手機(jī)外殼、鼠標(biāo)等產(chǎn)品上。
3.微電子行業(yè)領(lǐng)域中,其是一種非熱式鍍膜技術(shù),主要應(yīng)用在化學(xué)氣象沉積上。
4.在光學(xué)領(lǐng)域中用途巨大,比如說光學(xué)薄膜(如增透膜)、低輻射玻 璃和透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。
5.在機(jī)械行業(yè)加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學(xué)穩(wěn)定性能,能夠延長物品使用周期。
目前,磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用到廣大的領(lǐng)域中,在各行各業(yè)中都發(fā)揮著重要的作用。
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