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磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備濺射機(jī)理解析

發(fā)布日期：2019-05-13 作者：點(diǎn)擊：

磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備是一種輝光放電的設(shè)備，其利用陰極濺射原理來(lái)進(jìn)行鍍膜，那么其濺射機(jī)理是如何的呢？

用高能粒子(大多數(shù)是由電場(chǎng)加速的氣體正離子)撞擊固體表面(靶)，使固體原子(分子)從表面射出的現(xiàn)象稱為濺射。濺射現(xiàn)象很早就為人們所認(rèn)識(shí)，通過(guò)前人的大量實(shí)驗(yàn)研究，我們對(duì)這一重要物理現(xiàn)象得出以下幾點(diǎn)理論：

(1)濺射率隨入射離子能量的增加而增大;而在離子能量增加到一定程度時(shí)，由于離子注入效應(yīng)，濺射率將隨之減小;

(2)濺射率的大小與入射粒子的質(zhì)量有關(guān):

(3)當(dāng)入射離子的能量低于某一臨界值(閥值)時(shí)，不會(huì)發(fā)生濺射;

(4)濺射原子的能量比蒸發(fā)原子的能量大許多倍;

(5)入射離子的能量很低時(shí)，濺射原子角分布就不完全符合余弦分布規(guī)律。角分布還與入射離子方向有關(guān)。從單晶靶濺射出來(lái)的原子趨向于集中在晶體密度大的方向。

(6)因?yàn)殡娮拥馁|(zhì)量很小，所以即使使用具有極高能量的電子轟擊靶材也不會(huì)產(chǎn)生濺射現(xiàn)象。由于濺射是一個(gè)極為復(fù)雜的物理過(guò)程，涉及的因素很多，長(zhǎng)期以來(lái)對(duì)于濺射機(jī)理雖然進(jìn)行了很多的研究，提出過(guò)許多的理論，但都難以完善地解釋濺射現(xiàn)象。

磁控濺射