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磁控濺射系統(tǒng)的主要用途
（1）各種功能性薄膜：具有吸收，透射，反射，折射和偏振功能的薄膜。 例如，在低溫下沉積氮化硅抗反射膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
（2）在裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用，例如各種全反射膜和半透明膜，例如手機(jī)殼，鼠標(biāo)等。
（3）作為微電子領(lǐng)域的非熱鍍膜技術(shù)，主要用于化學(xué)氣相沉積（CVD）或金屬有機(jī)
（4）化學(xué)氣相沉積（CVD）難以生長并且不適合用于材料的薄膜沉積，并且可以獲得大面積的非常均勻的薄膜。
（5）在光學(xué)領(lǐng)域：IF封閉場非平衡磁控濺射技術(shù)也已應(yīng)用于光學(xué)薄膜（例如抗反射涂層），低輻射率玻璃和透明導(dǎo)電玻璃中。 特別地，透明導(dǎo)電玻璃目前廣泛地用于平板顯示裝置，太陽能電池，微波和射頻屏蔽裝置和裝置以及傳感器中。
（6）在機(jī)械加工工業(yè)中，自引入以來，表面功能膜，超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術(shù)得到了極大的發(fā)展，可以有效提高表面硬度，復(fù)合韌性，耐磨性和高韌性。 溫度化學(xué)穩(wěn)定性。 性能，從而大大提高了涂層產(chǎn)品的使用壽命。
除了已廣泛使用的上述領(lǐng)域外，磁控濺射鍍膜儀還在高溫超導(dǎo)薄膜，鐵電薄膜，巨磁阻薄膜，薄膜發(fā)光材料， 太陽能電池和記憶合金薄膜。
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