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磁控濺射系統(tǒng)有哪些種類？

發(fā)布日期：2019-12-09 作者：沈陽宇杰真空設備有限公司點擊：

磁控濺射系統(tǒng)的工作原理是電子在電場E的作用下飛向襯底的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，并使它們電離產(chǎn)生Ar正離子和新電子。 Ar離子在電場的作用下加速到陰極靶，并以高能轟擊靶表面，從而使靶材料濺射。 磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)私飧嘈畔ⅲ?/span>

磁控濺射包括許多類型。每個都有不同的工作原理和應用對象。但是，它們有一個共同點：磁場和電場之間的相互作用導致電子在目標表面附近盤旋，從而增加了電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的可能性。產(chǎn)生的離子在電場的作用下撞擊靶表面并濺射靶材料。

磁控反應濺射絕緣子似乎很容易，但實際操作卻很困難。主要問題是該反應不僅發(fā)生在零件的表面上，而且發(fā)生在陽極，真空腔的表面和目標源的表面上，這會導致滅火，目標源和表面起弧工件。德國萊比錫發(fā)明的雙靶技術很好地解決了這個問題。原理是一對目標源是彼此的陰極和陽極，因此陽極表面被氧化或氮化。

磁控濺射系統(tǒng)

在450磁控濺射中，由于運動中的電子在磁場中受到洛倫茲力，因此它們的運動軌跡會彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動，并且它們的運動路徑會變長，從而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)并產(chǎn)生了等離子體堆積密度的增加，使得磁控管濺射速率大大提高，并且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，從而減少了薄膜污染的趨勢。

在機械加工工業(yè)中，表面功能膜，超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術自問世以來發(fā)展迅速，可以提高表面硬度，復合韌性，耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性。延長涂層產(chǎn)品的壽命。

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