磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜均勻性是一項(xiàng)重要指標(biāo)

發(fā)布日期：2021-03-31 作者：點(diǎn)擊：

真空行業(yè)的從業(yè)者都知道,磁控濺射鍍膜機(jī)鍍膜均勻性是一項(xiàng)重要的目標(biāo)，均勻性好的鍍膜機(jī),鍍出優(yōu)秀的膜層慨率也就高許多,一起也降低了本錢,這是每個(gè)企業(yè)老板所希望的。因此,客戶在采購設(shè)備的時(shí)候,分外的關(guān)注鍍膜機(jī)均勻性問題,這個(gè)問題也是談判桌子上搶手的論題。那么磁控濺射鍍膜機(jī)均勻性問題，會受哪些要素影響呢及如何處理不均性問題呢?下面匯成真空小編具體為我們介紹一下:

磁控濺射薄膜均勻性一項(xiàng)重要目標(biāo),因此有必要研究影響磁控濺射均勻性的影響要素,以便更好的實(shí)現(xiàn)磁控濺射均勻鍍膜。簡略的說磁控濺射就是在正交的電磁場中,閉合的磁場捆綁電子圍繞靶面做螺旋運(yùn)動,在運(yùn)動過程中不斷碰擊作業(yè)4氣體氬t氣電離出大量的氬離子,氬離子在電場效果下加速炮擊靶材,濺射出靶原子離子(或分子)沉積在基片上構(gòu)成薄膜。

磁控濺射系統(tǒng)

所以要實(shí)現(xiàn)均勻的鍍膜,就需要均勻的濺射出靶原子離子(或分子) ,這就要求炮擊靶材的氬離子是均勻炮擊的。由于氬離子是在電場效果下加速炮擊靶材,所以要求電場均勻。而氬離子來源于閉臺的磁場捆綁的電子在運(yùn)動中不斷碰擊構(gòu)成,這就要求磁場均勻和氬氣分布均勻?？墒菍?shí)踐的磁控濺射設(shè)備中,這些要素都是很難徹底絕對的均勻,這就有必要研究他們不均勻?qū)Τ赡ぞ鶆蛐缘挠绊?。?shí)踐上磁場的均勻性和作業(yè)氣體的均勻性是影響成膜均勻性的最主要要素。磁場大的方位膜厚,反之膜薄,磁場方向也是影響均勻性的重要要素。

氣壓方面，在-定氣壓條件下,氣鈺大的方位膜厚,反之膜薄。

磁控濺射鍍膜機(jī)會有不均勻性的問題發(fā)生,當(dāng)呈現(xiàn)不均勻性問題的時(shí)候，要盡量確保磁場的均勻性和方向一致性,構(gòu)成一個(gè)相對均勻的空間磁場。其次,要盡量確保4氣壓上下的均勻性,真空腔體設(shè)計(jì)時(shí),要考慮真空泵的安裝方位,和工藝氣體進(jìn)氣訪式以及腔體內(nèi)工藝氣管的布局。第三,由于磁場和氣壓都不可能絕對抱負(fù)，那么就可以經(jīng)過氣壓的不均勻來補(bǔ)償磁場不均勻,讓最終薄膜均勻-致。第四,靶基距也是影響均勻性的重要要素。

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