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離子束濺射系統(tǒng)

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  • 濺鍍工藝的概念及分類

    濺鍍,通常指的是磁控濺鍍,屬于高速低溫濺鍍法。該工藝使用磁控濺射鍍膜儀要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空狀態(tài)充入惰性氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材（陽極）和金屬靶材（陰極）之間加上高壓直流電，由于輝光放電(g
    發(fā)布時間：2019-05-10   

  • 磁控濺射鍍膜儀的操作規(guī)范

    磁控濺射鍍膜儀的操作規(guī)范1.正常工作的磁控濺射鍍膜儀在開動時，需要先將水管打開，在磁控濺射鍍膜儀運行之中要時刻注意水壓的狀態(tài)；2.在離子轟擊和蒸發(fā)時，要特別注意線路方面的情況，不得觸動高壓線頭，以防觸電；3.在用磁控濺射鍍膜儀的電子槍的時候
    發(fā)布時間：2019-05-10   
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