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沈陽宇杰真空設備有限公司
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地址:遼寧省沈陽市沈河區(qū)泉園街道
DZS-500電子束蒸發(fā)設備
◆設備用途
可用于Au, Ni, Ag, Ti, Al, Cr和Mo等金屬以及氧化物(ITO等)在基片上均勻沉積多層膜
◆設備組成
系統(tǒng)主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺、 樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、 泵抽系統(tǒng)、 真空測量系統(tǒng)、 氣路系統(tǒng)、 電控系統(tǒng)等組成。
◆技術指標
極限真空度: 6.6x10-5 Pa
膜厚均勻性: ≤ ±5%
樣品最大尺寸:8英寸晶圓
轉(zhuǎn)速: 3–30 rpm/m
樣品加熱溫度:室溫~300°C
溫度均勻性:≤ ±10°C
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