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離子束濺射系統(tǒng)

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多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

  • 詳細介紹

多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

多室磁控濺射與離子束聯(lián)合系統(tǒng)

◆設(shè)備用途

用于納米級單層及多層功能膜、 硬質(zhì)膜、 金屬膜、 半導體膜、 介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。

 可廣泛應(yīng)用于大專院校、 科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、 進樣室、 永磁磁控濺射靶(三個靶)、 單基片加熱臺、 直流電源、 

射頻電源、 工作氣路、 抽氣系統(tǒng)、 真空測量、 電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。

◆技術(shù)指標

◆技術(shù)指標

極限真空度:≤6.8x10-5 Pa (經(jīng)烘烤除氣后);

系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后,再開始抽氣,40分鐘可達到8.0x10-4 Pa;

停泵關(guān)機12小時后真空度:≤4Pa。

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