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YJ-ZF350A高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)
◆設(shè)備用途
該系統(tǒng)為高真空多功能離子束沉積系統(tǒng), 系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級(jí)的單層及多層功能膜和復(fù)合膜-可鍍金屬、 合金、 化合物、 半導(dǎo)體、 介質(zhì)復(fù)合膜等。 廣泛應(yīng)用于大專院校、 科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。
◆設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺(tái)、 樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測(cè)系統(tǒng)、 泵抽系統(tǒng)、 真空測(cè)量系統(tǒng)、 氣路系統(tǒng)、 電控系統(tǒng)等組成。
◆技術(shù)指標(biāo)
真空:極限真空6*10 -5 帕; 工作真空6*10 -4 帕
恢復(fù)工作真空時(shí)間:連接手套箱≤10分鐘
不連接手套箱,充干燥氮?dú)狻?0分鐘
配有3個(gè)金屬蒸發(fā)源和3個(gè)有機(jī)蒸發(fā)源
配有3個(gè)膜厚探頭,膜厚儀進(jìn)口與國產(chǎn)可選
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