哈爾濱超高真空磁控鍍膜系統(tǒng)

超高真空磁控鍍膜系統(tǒng)

◆設(shè)備用途

該系統(tǒng)為高真空多功能離子束沉積系統(tǒng)，系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復(fù)合膜-可鍍金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、介質(zhì)復(fù)合膜等。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由沉積室、考夫曼濺射離子源、考夫曼清洗輔助離子源、樣品臺、樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成。

◆技術(shù)指標(biāo)

可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）

zhuanli設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度

可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm

全自動(dòng)程序控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等過程

觸摸屏控制，簡單方便

真空度≤7×10 -3 mbar

濺射電流：0-150mA可調(diào)

方形樣品倉zhuanli設(shè)計(jì)，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）

工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm

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