杭州高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)

◆設(shè)備用途

用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所進(jìn)

行薄膜材料的科研與小批量制備。

◆設(shè)備組成

主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)

量及電控系統(tǒng)等部分組成。

◆技術(shù)指標(biāo)

1、極限真空度：≤8.0×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；

2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-8Pa.L/S；停機(jī)12小時(shí)≤5Pa.

3、系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂?，再開(kāi)始抽氣，45分鐘可達(dá)到6.6×10-4Pa；

4、系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、安裝機(jī)臺(tái)及電控系統(tǒng)等部分組成。

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