杭州熱蒸發(fā)系統(tǒng)

熱蒸發(fā)系統(tǒng)

◆設(shè)備用途

用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等，廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。

◆設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E 型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。

◆技術(shù)指標(biāo)

極限真空度：≤6.7×10 Pa

恢復(fù)真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min

系統(tǒng)漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；

真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統(tǒng)e型電子槍：陽極電壓：6kv、8kv(1套)

坩堝：水冷式坩堝，四穴設(shè)計(jì)，每個容量11ml

功率：0-6KW可調(diào)電阻蒸發(fā)源(可選)

電壓：5、10V

功率：電流300A，輸出功率3Kw1套，可切換水冷電極3根，組成2個蒸發(fā)舟

基片尺寸：可放置4″基片

樣品臺：基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5-60轉(zhuǎn)/分基片與蒸發(fā)源之間距離300-350mm加熱溫度 ≤800°C±1°C，可調(diào)手動控制樣品擋板組件1套。

氣路系統(tǒng)：質(zhì)量流量控制器1路。

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