南京矩形磁控籠式卷繞濺射

矩形磁控籠式卷繞濺射

◆設備用途

該系統(tǒng)為高真空多功能離子束沉積系統(tǒng)，系統(tǒng)可用于開發(fā)納米級的單層及多層功能膜和復合膜-可鍍金屬、合金、化合物、半導體、介質復合膜等。廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。

◆設備組成

系統(tǒng)主要由沉積室、考夫曼濺射離子源、考夫曼清洗輔助離子源、樣品臺、樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、泵抽系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等組成。

◆技術指標

1、極限真空度：≤8.0×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后)；

2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0×10-8Pa.L/S；停機12小時≤5Pa.

3、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣，45分鐘可達到6.6×10-4Pa；

4、系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、安裝機臺及電控系統(tǒng)等部分組成。

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