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離子束濺射系統(tǒng)

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西安DZS-500電子束蒸發(fā)設備

西安DZS-500電子束蒸發(fā)設備

  • 詳細介紹

DZS-500電子束蒸發(fā)設備

DZS-500電子束蒸發(fā)設備

◆設備用途

可用于Au, Ni, Ag, Ti, Al, Cr和Mo等金屬以及氧化物(ITO等)在基片上均勻沉積多層膜

◆設備組成

系統(tǒng)主要由沉積室、 考夫曼濺射離子源、 考夫曼清洗輔助離子源、 樣品臺、 樣品加熱裝置、膜厚監(jiān)測系統(tǒng)、 泵抽系統(tǒng)、 真空測量系統(tǒng)、 氣路系統(tǒng)、 電控系統(tǒng)等組成。

◆技術指標

極限真空度： 6.6x10-5 Pa

膜厚均勻性： ≤ ±5%

樣品最大尺寸：8英寸晶圓

轉速： 3–30 rpm/m

樣品加熱溫度：室溫~300°C

溫度均勻性：≤ ±10°C

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