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磁控濺射鍍膜在高清PET基材上進(jìn)行多層貴金屬磁控濺鍍，通過對(duì)濺射的金屬層數(shù)和種類的設(shè)計(jì)達(dá)到光譜選擇的目的，從而實(shí)現(xiàn)可見光高透過。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵?/span>
磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一，磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜。
磁控濺射技術(shù)發(fā)展過程中各項(xiàng)技術(shù)的突破一般集中在等離子體的產(chǎn)生以及對(duì)等離子體進(jìn)行的控制等方面。通過對(duì)電磁場(chǎng)、溫度場(chǎng)和空間不同種類粒子分布參數(shù)的控制，使膜層質(zhì)量和屬性滿足各行業(yè)的要求。
相對(duì)準(zhǔn)確的電磁場(chǎng)設(shè)計(jì)是對(duì)濺射過程中的電磁場(chǎng)進(jìn)行模擬，而不是只對(duì)未工作時(shí)的磁控濺射設(shè)備進(jìn)行電磁場(chǎng)模擬。
陽極設(shè)計(jì)要考慮空間的位置，電位關(guān)系，尺寸和面積以及陽極的材料性能，保證濺射過程穩(wěn)定進(jìn)行。屏蔽的設(shè)計(jì)，首先要考慮電場(chǎng)的設(shè)計(jì)和電位關(guān)系，防止非靶材材料被濺射，污染薄膜。
濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用，并伴隨靶材原子及原子團(tuán)簇的產(chǎn)生的過程。
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