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磁控濺射鍍膜儀在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材,目前大部分鍍膜企業(yè)都會(huì)有使用到。我們平日生產(chǎn)的時(shí)候都是由機(jī)器生產(chǎn),那么大家知道目前的磁控濺射鍍膜儀主要的濺射方式有哪幾種么?下面小編就來(lái)給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。磁控濺射鍍膜儀
發(fā)布時(shí)間:2022-09-16 點(diǎn)擊次數(shù):27
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磁控濺射鍍膜儀技術(shù)發(fā)展過(guò)程中各項(xiàng)技術(shù)的突破一般集中在等離子體的產(chǎn)生以及對(duì)等離子體進(jìn)行的控制等方面。通過(guò)對(duì)電磁場(chǎng)、溫度場(chǎng)和空間不同種類粒子分布參數(shù)的控制,使膜層質(zhì)量和屬性滿足各行業(yè)的要求。膜厚均勻性與磁控濺射靶的工作狀態(tài)息息相關(guān),如靶的刻蝕狀
發(fā)布時(shí)間:2022-09-16 點(diǎn)擊次數(shù):31
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隨著科技的發(fā)展,使用磁控濺射鍍膜儀對(duì)顆粒狀物體鍍膜已經(jīng)不再是一件難事。特別是在顆粒狀金屬物體表面使用鍍膜技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)成熟。這是應(yīng)為顆粒物體表面積能都比較大,其之間能夠容易進(jìn)行團(tuán)聚,曲率半徑卻是小的,因此在顆粒狀物體表面上使用磁控雖然可行,但
發(fā)布時(shí)間:2022-08-16 點(diǎn)擊次數(shù):38
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磁控濺射鍍膜儀當(dāng)然有輻射,1、可見(jiàn)光波段:陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體分子,分子/原子光譜。這些光密度不大,不至于刺傷鈦合金狗眼.屬于無(wú)害輻射。2、不可見(jiàn)光波段:陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體分子,紅外/紫外,分子/原子光譜。紫外輻射有害3、
發(fā)布時(shí)間:2022-06-10 點(diǎn)擊次數(shù):57
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磁控濺射鍍膜儀的原理!磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!用磁控靶源濺射金屬和合金很容易
發(fā)布時(shí)間:2022-04-19 點(diǎn)擊次數(shù):41
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磁控濺射鍍膜儀的種類磁控濺射品種磁控濺射包括很多品種。各有不同作業(yè)原理和使用目標(biāo)。但有一共同點(diǎn):使用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶外表鄰近成螺旋狀運(yùn)轉(zhuǎn),然后增大電子撞擊氬氣發(fā)生離子的概率。所發(fā)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面然后濺射出靶材。靶源
發(fā)布時(shí)間:2022-04-20 點(diǎn)擊次數(shù):41
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磁控濺射鍍膜設(shè)備的工作原理要從一開(kāi)始的“濺射現(xiàn)象”說(shuō)起。人們由起初發(fā)覺(jué)“濺射現(xiàn)象”發(fā)展至“濺射鍍膜”此間歷經(jīng)了相當(dāng)長(zhǎng)的發(fā)展時(shí)間,濺射現(xiàn)象早在19世紀(jì)50年代的法拉第氣體放電實(shí)驗(yàn)就已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了。不過(guò)當(dāng)時(shí)還只將此現(xiàn)象作為一種避免范疇的研究,認(rèn)為這
發(fā)布時(shí)間:2022-03-23 點(diǎn)擊次數(shù):49
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磁控濺射鍍膜儀技術(shù)的發(fā)展及應(yīng)用濺射鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊靶材表面,通過(guò)粒子動(dòng)量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜技術(shù)具有可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積,薄膜與基體結(jié)合力好,濺射密度高、針孔少,膜層
發(fā)布時(shí)間:2022-02-18 點(diǎn)擊次數(shù):50
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磁控濺射鍍膜儀技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)等離子體濺射的基本過(guò)程是負(fù)極的靶材在位于其上的等離子體中的載能離子作用下,靶材原子從靶材濺射出來(lái),然后在襯底上凝聚形成薄膜;在此過(guò)程中靶材表面同時(shí)發(fā)射二次電子,這些電子在保持等離子體穩(wěn)定存在方面具有關(guān)鍵作用。濺射技
發(fā)布時(shí)間:2022-02-10 點(diǎn)擊次數(shù):37
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磁控濺射鍍膜儀有幾種類型?磁控濺射鍍膜儀有很多種。它們有不同的工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一個(gè)共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)和電場(chǎng)的相互作用,電子會(huì)在靶表面盤旋,從而增加電子撞擊氬產(chǎn)生離子的概率。在電場(chǎng)的作用下,產(chǎn)生的離子與靶材表面發(fā)生碰撞,飛濺出靶材。目標(biāo)
發(fā)布時(shí)間:2021-04-21 點(diǎn)擊次數(shù):83
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目前市場(chǎng)上磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方法有很多種,比如說(shuō)在運(yùn)用中常見(jiàn)的二級(jí)濺射、三級(jí)濺射、四級(jí)濺射,以及磁控濺射,對(duì)向靶濺射......等多種。那么這些濺射方法有什么區(qū)別呢?下面我們來(lái)簡(jiǎn)單的介紹幾種濺射
發(fā)布時(shí)間:2020-09-27 點(diǎn)擊次數(shù):98
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在使用磁控濺射鍍膜設(shè)備的時(shí)分,使用一般的濺射方法,發(fā)現(xiàn)濺射功率都不是十分的高。為了提高濺射的功率,加快工作的進(jìn)度。那么該怎么加快這種設(shè)備的使用功率呢?這就需要添加氣體的理化功率。添加氣體的離化功率可以
發(fā)布時(shí)間:2020-05-18 點(diǎn)擊次數(shù):104
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磁控濺射鍍膜設(shè)備開(kāi)展至今,在工業(yè)方面顯的極為重要,其作用范圍廣泛,完全的改動(dòng)了傳統(tǒng)的鍍膜行業(yè)。使得鍍膜作業(yè)在出產(chǎn)質(zhì)量方面以及功率方面都得到了較大的提高。那么磁控濺射鍍膜設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢(shì)呢?磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方法磁控濺射鍍膜設(shè)備主要有
發(fā)布時(shí)間:2020-08-29 點(diǎn)擊次數(shù):151
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磁控濺射鍍膜儀鍍膜技能具有堆積溫度更低,可以完成高速、無(wú)缺點(diǎn)陶瓷薄膜堆積等一系列典型長(zhǎng)處。比方堆積氧化物薄膜時(shí),傳統(tǒng)上可以運(yùn)用金屬靶材、在恰當(dāng)可控氧氣氣氛中反應(yīng)濺射堆積或許射頻(一般13156MHz)濺射氧化物靶材堆積。可是這2種方法均
發(fā)布時(shí)間:2020-05-06 點(diǎn)擊次數(shù):49
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磁控濺射鍍膜儀鍍膜技能的開(kāi)展近年來(lái)磁控濺射技能開(kāi)展非常迅速,代表性辦法有平衡平衡磁控濺射、反響磁控濺射、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等。平衡磁控濺射:即傳統(tǒng)的磁控濺射技能,將永磁體或電磁線圈放到在靶材背后,在靶材外表會(huì)形成與電場(chǎng)方向垂直
發(fā)布時(shí)間:2020-01-13 點(diǎn)擊次數(shù):75
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磁控濺射鍍膜儀有兩種,一種是中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備,另一種是直流磁控濺射鍍膜設(shè)備。中頻磁控濺射鍍膜技術(shù)已逐漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)。它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜,因?yàn)樗朔岁?yáng)極的消失并減少或消除了靶材的異常電弧放電。直流磁控濺射專用鍍膜設(shè)備
發(fā)布時(shí)間:2020-01-02 點(diǎn)擊次數(shù):145
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在使用磁控濺射鍍膜儀的時(shí)候,使用一般的濺射方法,發(fā)現(xiàn)濺射功率都不是非常的高。為了提高濺射的功率,加快工作的進(jìn)度。那么該怎么加快這種設(shè)備的使用功率呢?這就需要添加氣體的理化功率。添加氣體的
發(fā)布時(shí)間:2019-12-23 點(diǎn)擊次數(shù):78
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電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是一種基于鎢絲蒸發(fā)的真空蒸發(fā)方式。電子束是高速電子流。電子束蒸發(fā)是真空鍍膜技術(shù)中成熟且主要的鍍膜方法。解決了在電阻加熱模式下膜材料和蒸發(fā)源材料直接接觸的問(wèn)題。中文
發(fā)布時(shí)間:2019-10-31 點(diǎn)擊次數(shù):142
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真空熱壓爐真空熱壓爐主要由爐體,爐門,加熱保溫和測(cè)溫系統(tǒng),真空系統(tǒng),充氣系統(tǒng),水冷卻系統(tǒng),控制系統(tǒng),液壓系統(tǒng)等組成。。真空熱壓爐是一種循環(huán)操作型,廣泛用于高溫高真空條件下的熱熔燒結(jié),例如硬質(zhì)合金,功能陶瓷,粉末
發(fā)布時(shí)間:2019-10-29 點(diǎn)擊次數(shù):106
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熱壓燒結(jié)熱壓燒結(jié)是指將干粉填充到模具中并在從單軸方向加壓的同時(shí)進(jìn)行加熱以完成成型和燒結(jié)的燒結(jié)方法。功能熱壓燒結(jié)特性:熱壓燒結(jié)是通過(guò)加熱和加壓同時(shí)進(jìn)行的,粉末材料處于熱塑性狀態(tài),這有利于顆粒的接觸擴(kuò)散
發(fā)布時(shí)間:2019-10-25 點(diǎn)擊次數(shù):102
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電子束蒸發(fā)源在真空鍍膜設(shè)備中,電子束蒸發(fā)源雖遠(yuǎn)較電阻加熱式蒸發(fā)源復(fù)雜,但因其能蒸鍍難熔材料,膜層純度高,而優(yōu)于電阻加熱蒸發(fā)源。中文名電子束蒸發(fā)源外文名evaporatorwithelectronbeam基本內(nèi)容電子束加熱的蒸鍍?cè)?
發(fā)布時(shí)間:2019-10-22 點(diǎn)擊次數(shù):417
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濺射鍍膜的原理是在電場(chǎng)的作用下,由異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體被轟擊在陰極靶的表面上,并且靶表面上的分子,原子,離子和電子被濺射并濺起。所發(fā)射的顆粒具有一定的動(dòng)能,并且沿一定的方向被導(dǎo)向基板的外表面,以在基板的表面上形成鍍層。
發(fā)布時(shí)間:2019-10-16 點(diǎn)擊次數(shù):325
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磁控濺射是物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì)70年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更
發(fā)布時(shí)間:2019-10-14 點(diǎn)擊次數(shù):277
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用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。等離子體濺射的基本
發(fā)布時(shí)間:2019-09-27 點(diǎn)擊次數(shù):56
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磁控濺射技術(shù)在建材、裝飾、光學(xué)、防腐蝕、工磨具強(qiáng)化等領(lǐng)域得到比較廣泛的應(yīng)用,利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行光電、光熱、磁學(xué)、超導(dǎo)、介質(zhì)、催化等功能薄膜制備是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)。磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多
發(fā)布時(shí)間:2019-09-19 點(diǎn)擊次數(shù):74
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真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量,在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對(duì)鏡頭進(jìn)行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞
發(fā)布時(shí)間:2019-09-18 點(diǎn)擊次數(shù):65
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磁控濺射鍍膜技術(shù)由于其顯著的優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)成為制備薄膜的主要技術(shù)之一。非平衡磁控濺射改善了等離子體區(qū)域的分布,顯著提高了薄膜的質(zhì)量。中頻濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展有效克服了反應(yīng)濺射過(guò)程中出現(xiàn)的打弧現(xiàn)象,減少了薄膜的結(jié)構(gòu)缺陷,明顯提高了薄膜的沉積速率。磁控
發(fā)布時(shí)間:2019-09-15 點(diǎn)擊次數(shù):72
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鍍膜織物膜基結(jié)合力與其表面鈦膜的耐磨性密切相關(guān),鈦膜耐磨性越好,膜基結(jié)合就越牢固。磁控濺射鍍膜玻璃即為離線鍍膜玻璃,是在平板玻璃出廠后,再進(jìn)行鍍膜加工。合格的鍍膜玻璃不僅要滿足光學(xué)透射率、反射率、耐磨性能、抗化學(xué)腐蝕性能等理化指標(biāo),還要保證
發(fā)布時(shí)間:2019-09-12 點(diǎn)擊次數(shù):58
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磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!用?
發(fā)布時(shí)間:2019-09-10 點(diǎn)擊次數(shù):164
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磁控濺射技術(shù)是近年來(lái)新興的一種材料表面鍍膜技術(shù),該技術(shù)實(shí)現(xiàn)了金屬、絕緣體等多種材料的表面鍍膜,具有高速、低溫、低損傷的特點(diǎn)。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量,在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都
發(fā)布時(shí)間:2019-09-06 點(diǎn)擊次數(shù):39
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磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。但有一共同點(diǎn):利用磁場(chǎng)與電場(chǎng)交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣產(chǎn)生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵∮么趴匕性礊R射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這
發(fā)布時(shí)間:2019-08-31 點(diǎn)擊次數(shù):106
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在濺射鍍膜中盡量抑制油蒸汽的污染的必要性應(yīng)是無(wú)可爭(zhēng)議的。為了保證每個(gè)濺射室能在獨(dú)立的氣氛下工作,相鄰的濺射室之間應(yīng)采取氣氛隔離措施。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!等離子體濺射的基本過(guò)程是負(fù)極的靶材在位于其上的輝光等離子體中的載能離子作用
發(fā)布時(shí)間:2019-08-08 點(diǎn)擊次數(shù):39
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磁控濺射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜,在國(guó)防和國(guó)民經(jīng)濟(jì)生產(chǎn)中的作用和地位日益強(qiáng)大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性,沉積速率,靶材利用率
發(fā)布時(shí)間:2019-08-05 點(diǎn)擊次數(shù):91
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濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用,并伴隨靶材原子及原子團(tuán)簇的產(chǎn)生的過(guò)程。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!鍍膜設(shè)備決定鍍膜工藝過(guò)程的實(shí)現(xiàn),鍍膜工藝促進(jìn)鍍膜設(shè)備的升級(jí),而高性能的計(jì)算機(jī)仿真設(shè)計(jì)給兩者的設(shè)計(jì)提供了強(qiáng)有力的支持。
發(fā)布時(shí)間:2019-07-16 點(diǎn)擊次數(shù):39
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磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。磁控濺射電源昂
發(fā)布時(shí)間:2019-07-18 點(diǎn)擊次數(shù):58
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磁控濺射卷繞鍍膜是采用磁控濺射(直流、中頻、射頻)的方法把各種金屬、合金、化合物、陶瓷等材料沉積到柔性基材上,進(jìn)行單層或多層鍍膜。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!磁控濺射卷繞鍍膜技術(shù)由于覆蓋領(lǐng)域廣泛,雖然比蒸發(fā)卷繞鍍膜技術(shù)起步晚,但發(fā)展極為
發(fā)布時(shí)間:2019-07-22 點(diǎn)擊次數(shù):70
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磁控濺射鍍膜在高清PET基材上進(jìn)行多層貴金屬磁控濺鍍,通過(guò)對(duì)濺射的金屬層數(shù)和種類的設(shè)計(jì)達(dá)到光譜選擇的目的,從而實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光高透過(guò)。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵〈趴貫R射鍍膜是現(xiàn)代工業(yè)中不可缺少的技術(shù)之一,磁控濺射鍍膜技術(shù)正廣泛應(yīng)用于透明導(dǎo)電
發(fā)布時(shí)間:2019-07-26 點(diǎn)擊次數(shù):74
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濺射產(chǎn)額隨入射離子能量變化的簡(jiǎn)單示意圖,簡(jiǎn)稱濺射曲線。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!顏色可以做到比較深,耐磨性能也很好,但其色調(diào)不夠純正,總是黑中略帶黃色。并且由于鈦的熔點(diǎn)相對(duì)較低,在濺射時(shí)易出現(xiàn)大的顆粒,使其光令度不易得到改善。濺射鍍膜
發(fā)布時(shí)間:2019-07-30 點(diǎn)擊次數(shù):73
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磁控濺射鍍膜儀濺射碰撞一般是研究帶電荷能離子與靶材表層粒子相互作用,并伴隨靶材原子及原子團(tuán)簇的產(chǎn)生的過(guò)程。應(yīng)用較多的理論是級(jí)聯(lián)碰撞理論。SRIM等較成熟的模擬軟件已經(jīng)在模擬濺射過(guò)程中得到了廣泛應(yīng)用。鍍膜設(shè)備的工程設(shè)計(jì)、鍍膜工藝的設(shè)計(jì)及二者的
發(fā)布時(shí)間:2019-07-09 點(diǎn)擊次數(shù):47
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磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程,和靶原子碰撞,把部分動(dòng)量傳給靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量,離開(kāi)靶被濺射出來(lái)。磁控濺射鍍膜儀廠
發(fā)布時(shí)間:2019-07-12 點(diǎn)擊次數(shù):41
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磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!磁?
發(fā)布時(shí)間:2019-07-05 點(diǎn)擊次數(shù):117
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磁控濺射技術(shù)是常用的一種物理氣相沉積技術(shù)。磁控濺射鍍膜機(jī)可用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料,具有設(shè)備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),因此被廣泛使用。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!可?jiàn)光波段:陰極發(fā)射的電子電離介質(zhì)氣體
發(fā)布時(shí)間:2019-06-29 點(diǎn)擊次數(shù):176
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重度劃痕:可以按照綠色、粉紅色、藍(lán)色、橙色研磨片進(jìn)行研磨,然后拋光;或者按照綠色、藍(lán)色、橙色研磨片進(jìn)行研磨,然后拋光。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!中度劃?可以按照粉紅色、藍(lán)色、橙色研磨片進(jìn)行研磨,然后拋光。輕度劃痕:可以按照藍(lán)色、橙色
發(fā)布時(shí)間:2019-06-28 點(diǎn)擊次數(shù):86
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磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!磁?
發(fā)布時(shí)間:2019-06-27 點(diǎn)擊次數(shù):158
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磁控濺射技術(shù)是常用的一種物理氣相沉積技術(shù)。磁控濺射鍍膜機(jī)可用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種薄膜材料,具有設(shè)備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),因此被廣泛使用。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧啵〔A再|(zhì)穩(wěn)定,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,并且堅(jiān)硬耐用
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磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!磁控濺射是物理氣相沉積(PhysicalVaporDepositi
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磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。磁控濺射鍍膜儀廠家?guī)懔私飧?!磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)
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