磁控濺射鍍膜儀有幾種類型？

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磁控濺射鍍膜儀有幾種類型？

發(fā)布日期：2021-04-21 作者：點(diǎn)擊：

磁控濺射鍍膜儀有幾種類型？

磁控濺射鍍膜儀有很多種。它們有不同的工作原理和應(yīng)用對象。但有一個(gè)共同點(diǎn)：利用磁場和電場的相互作用，電子會在靶表面盤旋，從而增加電子撞擊氬產(chǎn)生離子的概率。在電場的作用下，產(chǎn)生的離子與靶材表面發(fā)生碰撞，飛濺出靶材。

目標(biāo)源可分為平衡型和非平衡型。平衡型靶源涂層均勻，非平衡型靶源涂層與基體附著力強(qiáng)。平衡靶主要用于半導(dǎo)體光學(xué)薄膜，而非平衡靶主要用于裝飾膜的佩戴。根據(jù)磁場結(jié)構(gòu)的分布。平衡態(tài)磁控管陰極內(nèi)外磁體的磁通量大致相等。兩極磁力線靠近靶面，將電子/等離子體限制在靶面附近，增加了碰撞概率，提高了電離效率。因此，輝光放電可以在較低的工作壓力和電壓下啟動(dòng)和維持，靶材的利用率較高。非平衡磁控濺射技術(shù)的概念是磁控陰極外極的磁通量大于內(nèi)極的磁通量，而兩極磁力線在靶面上并不是完全閉合的。一些磁力線可以沿著靶的邊緣延伸到基底區(qū)域，因此一些電子可以沿著磁力線延伸到基底區(qū)域，從而增加基底區(qū)域的等離子體密度和氣體電離率，無論平衡或非平衡，如果磁鐵是靜止的，其磁場特性決定了一般靶材利用率不到30%。為了提高靶材的利用率，可以采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要一個(gè)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，濺射速率應(yīng)降低。旋轉(zhuǎn)磁場主要用于大型或有價(jià)值的目標(biāo)。如半導(dǎo)體薄膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，通常采用磁性靜態(tài)目標(biāo)源。

磁控濺射鍍膜儀

磁控管靶源濺射金屬及合金容易，點(diǎn)火、濺射方便。這是因?yàn)榘校帢O）、等離子體和飛濺的零件/真空腔可以形成一個(gè)回路。但如果陶瓷等絕緣體被濺射，電路就會斷開。所以人們采用高頻電源，在電路中加入一個(gè)強(qiáng)電容。這樣，目標(biāo)成為絕緣電路中的電容器。但是，高頻磁控濺射電源價(jià)格昂貴，濺射速率小，接地技術(shù)復(fù)雜，難以大規(guī)模使用。

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