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濺射鍍膜過(guò)程是什么？

發(fā)布日期：2019-09-12 作者：點(diǎn)擊：

鍍膜織物膜基結(jié)合力與其表面鈦膜的耐磨性密切相關(guān)，鈦膜耐磨性越好，膜基結(jié)合就越牢固。磁控濺射鍍膜玻璃即為離線(xiàn)鍍膜玻璃，是在平板玻璃出廠(chǎng)后，再進(jìn)行鍍膜加工。合格的鍍膜玻璃不僅要滿(mǎn)足光學(xué)透射率、反射率、耐磨性能、抗化學(xué)腐蝕性能等理化指標(biāo)，還要保證產(chǎn)品的色調(diào)均勻性。

濺射鍍膜過(guò)程主要是將欲沉積成薄膜的材料制成靶材，固定在濺射沉積系統(tǒng)的陰極上，待沉積薄膜的基片放在正對(duì)靶面的陽(yáng)極上。

濺射系統(tǒng)抽至高真空后充入氬氣等，在陰極和陽(yáng)極之間加載高壓，陰陽(yáng)極之間會(huì)產(chǎn)生低壓輝光放電。

磁控濺射鍍膜儀廠(chǎng)家

近年來(lái)磁控濺射技術(shù)發(fā)展非常迅速，代表性方法有平衡平衡磁控濺射、反應(yīng)磁控濺射、中頻磁控濺射及高能脈沖磁控濺射等等。

放電產(chǎn)生的等離子體中，氬氣正離子在電場(chǎng)作用下向陰極移動(dòng)，與靶材表面碰撞，受碰撞而從靶材表面濺射出的靶材原子稱(chēng)為濺射原子。

磁控濺射不僅應(yīng)用于科研及工業(yè)領(lǐng)域，已延伸到許多日常生活用品，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相沉積制膜困難的薄膜制備。磁控濺射技術(shù)在制備電子封裝及光學(xué)薄膜方面已有多年，特別是先進(jìn)的中頻非平衡磁控濺射技術(shù)也已在光學(xué)薄膜、透明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。

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