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磁控濺射設(shè)備的主要用途

發(fā)布日期：2019-10-18 作者：點(diǎn)擊：

磁控濺射是物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

磁控濺射設(shè)備的主要用途

（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫堆積氮化硅減反射膜，以進(jìn)步太陽能電池的光電轉(zhuǎn)化效率。

（2）裝飾領(lǐng)域的應(yīng)用，如各種全反射膜及半通明膜等，如手機(jī)外殼，鼠標(biāo)等。

磁控濺射

（3）在微電子領(lǐng)域作為一種非熱式鍍膜技能，主要應(yīng)用在化學(xué)氣相堆積（CVD）或金屬有機(jī)

（4）化學(xué)氣相堆積（CVD）成長(zhǎng)困難及不適用的資料薄膜堆積，并且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

（5）在光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射技能也已在光學(xué)薄膜（如增透膜）、低輻射玻璃和通明導(dǎo)電玻璃等方面得到應(yīng)用。特別是通明導(dǎo)電玻璃現(xiàn)在廣泛應(yīng)用于平板顯現(xiàn)器材、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器材、傳感器等。

（6）在機(jī)械加工行業(yè)中，外表功能膜、超硬膜，自潤(rùn)滑薄膜的外表堆積技能自問世以來得到長(zhǎng)足發(fā)展，能有用的進(jìn)步外表硬度、復(fù)合韌性、耐磨損性和抗高溫化學(xué)穩(wěn)定功能，從而大幅度地進(jìn)步涂層產(chǎn)品的使用壽命。

磁控濺射除上述已被很多應(yīng)用的領(lǐng)域，還在高溫超導(dǎo)薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光資料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發(fā)揮重要作用。

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