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離子束濺射系統(tǒng)

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行業(yè)新聞

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  • 磁控濺射系統(tǒng)對不同材料的濺射效果有差異嗎？

    磁控濺射系統(tǒng)是一種常用的表面涂層技術(shù)，通過在真空環(huán)境下使用高能離子轟擊靶材，使其濺射形成薄膜沉積在基片表面上。然而，不同材料的濺射效果會有所差異，主要取決于材料的性質(zhì)和結(jié)構(gòu)。首先，材料的晶格結(jié)構(gòu)會影響濺射效果。晶格結(jié)構(gòu)較為規(guī)整的材料往往可以
    發(fā)布時間：2024-09-05   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的安裝和維護注意事項有哪些？

    磁控濺射系統(tǒng)是一種廣泛應(yīng)用于各種領(lǐng)域的薄膜制備技術(shù)，其性能穩(wěn)定性和稀薄膜的均勻性使其在光電子、顯示器件、導(dǎo)電膜等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。然而，磁控濺射系統(tǒng)也需要經(jīng)常進行安裝和維護，以確保其正常運行和延長設(shè)備壽命。下面我們將詳細介紹磁控濺射系統(tǒng)
    發(fā)布時間：2024-07-08   

  • 磁控濺射鍍膜儀是否容易產(chǎn)生漏鍍現(xiàn)象？

    磁控濺射鍍膜儀是一種常用的薄膜制備設(shè)備，通過濺射金屬靶材產(chǎn)生的高能離子束照射在基板上，形成薄膜。磁控濺射鍍膜儀在薄膜制備過程中，可能會出現(xiàn)漏鍍現(xiàn)象，即未被覆蓋的區(qū)域出現(xiàn)了薄膜沉積，造成薄膜的不均勻性。漏鍍現(xiàn)象通常由以下幾個原因造成：靶材表面
    發(fā)布時間：2024-03-29   

  • 磁控濺射系統(tǒng)如何提高涂層的附著力和耐磨性？

    磁控濺射是一種常見的表面涂層技術(shù)，通過在基材表面形成均勻、致密、耐磨的涂層層，可以改善基材的性能。為了提高磁控濺射系統(tǒng)涂層的附著力和耐磨性，可以從以下幾個方面進行優(yōu)化。首先，合適的預(yù)處理工藝對于提高涂層附著力至關(guān)重要。在進行濺射之前，需要對
    發(fā)布時間：2023-10-10   

  • 磁控濺射系統(tǒng)靶中毒的影響因素

    磁控濺射系統(tǒng)靶面金屬化合物的形成。由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必需有傳導(dǎo)出去的途徑，否則，該化學(xué)反應(yīng)無法繼續(xù)
    發(fā)布時間：2022-11-21   

  • 磁控濺射系統(tǒng)在裝修領(lǐng)域的應(yīng)用

    當(dāng)磁控濺射系統(tǒng)入射離子的能量低于某一臨界值(閥值)時，不會產(chǎn)生濺射;濺射原子的能量比蒸騰原子的能量大許多倍;入射離子的能量很低時，濺射原子角分布就不完全符合余弦分布規(guī)則。角分布還與入射離子方向有關(guān)。從單晶靶濺射出來的原子趨向于集中在晶體密度
    發(fā)布時間：2022-10-28   

  • 磁控濺射鍍膜儀的方式有哪些

    磁控濺射鍍膜儀在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控濺射鍍膜儀主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。磁控濺射鍍膜儀
    發(fā)布時間：2022-09-16   

  • 磁控濺射鍍膜儀在顆粒狀表面運行是否可行

    隨著科技的發(fā)展，使用磁控濺射鍍膜儀對顆粒狀物體鍍膜已經(jīng)不再是一件難事。特別是在顆粒狀金屬物體表面使用鍍膜技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)成熟。這是應(yīng)為顆粒物體表面積能都比較大，其之間能夠容易進行團聚，曲率半徑卻是小的，因此在顆粒狀物體表面上使用磁控雖然可行，但
    發(fā)布時間：2022-08-16   

  • 用磁控濺射系統(tǒng)濺射金屬和合金很簡單

    磁控濺射系統(tǒng)的作業(yè)原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片進程中與氬原子發(fā)生磕碰，使其電離發(fā)生出Ar正離子和新的電子。濺射時，氣體被電離之后，氣體離子在電場作用下飛向接陰極的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。這樣在低電壓和低氣壓下，發(fā)生的離
    發(fā)布時間：2022-01-06   

  • 磁控濺射系統(tǒng)為了提高濺射的功率,加速作業(yè)的進展

    磁控濺射系統(tǒng)玻璃對錯晶無機非金屬資料，一般是用多種無機礦藏(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料，別的參加少量輔助原料制成的。真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的種類和質(zhì)量與磁控濺射鍍膜玻璃比較均存在必定差距，已逐漸被真空濺
    發(fā)布時間：2021-12-23   

  • 磁控濺射系統(tǒng)須有效地提高氣體的離化率

    磁控濺射系統(tǒng)經(jīng)過改進堆積率和增大批量，體系產(chǎn)值最高能夠添加400%靶材利用率最高能夠添加300%、減少維護并改進整體擁有本錢專為提高薄膜均勻度而優(yōu)化的刀具幾何結(jié)構(gòu)與固有的IBS加工技術(shù)優(yōu)勢相結(jié)合，可使資料均勻度提升50%。SP
    發(fā)布時間：2021-11-25   

  • 磁控濺射系統(tǒng)濺射金屬和合金很容易，焚燒和濺射很便利

    濺射鍍膜膜厚均勻性是間接衡量鍍膜工藝的規(guī)范之一，它涉及鍍膜進程的各個方面。因而，制備膜厚均勻性好的薄膜需要建立一個濺射鍍膜膜厚均勻性歸納規(guī)劃體系，對濺射鍍膜的各個方面進行分類、歸納和總結(jié)，找出其內(nèi)在聯(lián)系。磁控濺射包括許多品種。各有不同作業(yè)原
    發(fā)布時間：2021-10-07   

  • 磁控濺射鍍膜儀適合于大容積鍍膜

    磁控濺射鍍膜儀是由二極濺射基礎(chǔ)上開展而來，在靶材外表樹立與電場正交磁場，處理了二極濺射堆積速率低，等離子體離化率低一級問題，成為現(xiàn)在鍍膜工業(yè)首要方法之一。磁控濺射與其它鍍膜技術(shù)比較具有如下特征：可制備成靶的材料廣，幾乎全部金屬，合金和
    發(fā)布時間：2021-09-22   

  • 磁控濺射系統(tǒng)的工作原理

    磁控濺射系統(tǒng)的作業(yè)原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片進程中與氬原子產(chǎn)生磕碰，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰ji靶，并以高能量炮擊靶表面，使靶材產(chǎn)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分
    發(fā)布時間：2021-08-24   

  • 磁控濺射鍍膜儀的技術(shù)介紹

    磁控濺射鍍膜儀是一種具有結(jié)構(gòu)簡略、電器操控穩(wěn)定性好等優(yōu)點的真空鍍膜機，其工藝技術(shù)的選擇對薄膜的功能具有非常重要的影響。磁控濺射鍍膜技術(shù)在陶瓷外表裝修中采用的工藝流程如下：陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預(yù)
    發(fā)布時間：2021-07-28   

  • 磁控濺射系統(tǒng)是怎樣提高沉積速率的？

    磁控濺射系統(tǒng)提高沉積速率的原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速
    發(fā)布時間：2021-06-04   

  • 射頻磁控濺射與離子束濺射系統(tǒng)有哪些區(qū)別

    射頻磁控濺射與離子束濺射系統(tǒng)有哪些區(qū)別兩種濺射法的比照分析在高頻濺射中，被濺射資料以分子標(biāo)準(zhǔn)巨細的粒子帶有一定能量接二連三的穿過等離子體在基片上淀積薄膜，這樣，膜質(zhì)比熱蒸騰淀積薄膜細密、附著力好。但是濺射粒子穿過等離子體區(qū)時，吸附等離子體中
    發(fā)布時間：2021-05-26   

  • 磁控濺射鍍膜機鍍膜均勻性是一項重要指標(biāo)

    真空行業(yè)的從業(yè)者都知道,磁控濺射鍍膜機鍍膜均勻性是一項重要的目標(biāo)，均勻性好的鍍膜機,鍍出優(yōu)秀的膜層慨率也就高許多,一起也降低了本錢,這是每個企業(yè)老板所希望的。因此,客戶在采購設(shè)備的時候,分外的關(guān)注鍍膜機均勻性問題,這個問題也是談
    發(fā)布時間：2021-03-31   

  • 磁控濺射系統(tǒng)具有環(huán)保性

    磁控濺射系統(tǒng)可以有效的前進產(chǎn)品的質(zhì)量，特別是使用在一些金屬原料上的時候，其不只可以讓其具有絕緣的效果，還可以提水抗腐蝕程度的水平。在現(xiàn)在的商場中磁控濺射體系設(shè)備適用于電子、機械、修建和其他領(lǐng)域的金屬及介電涂層商場的很大一部分份額。該設(shè)備是對
    發(fā)布時間：2021-02-19   

  • 磁控濺射鍍膜儀的特征有哪些？

    磁控濺射鍍膜儀設(shè)備作為現(xiàn)在的的外表處理設(shè)備，其效果是非常大的，不只使用范圍廣泛，在使用上還可以給人們帶來便利。磁控濺射鍍膜儀具有以下明顯特征：1、成膜厚度工藝參數(shù)精準(zhǔn)可控。經(jīng)過調(diào)整爐內(nèi)氣壓、濺射功率、襯底溫度、磁場以及電場參數(shù)等，可方便地對
    發(fā)布時間：2021-01-21   
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