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一、離子束濺射的長處
1、濺射鍍膜是依托動量交換效果使固體資料的原子、分子進入氣相，濺射出的均勻能量10eV，高于真空蒸發(fā)粒子的100倍左右，堆積在基體表面上之后，尚有足夠的動能在基體表面上遷移，因此薄膜質(zhì)量較好，與基體結(jié)合牢固。
2、任何資料都能濺射鍍膜，資料濺射特性不同較其蒸發(fā)特性不同小，即使是高熔點資料也能進行濺射，對于合金、靶材化合物資料易制成與靶材組分比例相同的薄膜，因此濺射鍍膜的應(yīng)用非常廣泛。
3、濺射鍍膜中的入射離子一般利用氣體放電法得到，因此其工作壓力在10-2Pa~10Pa規(guī)模，所以濺射離子在飛到基體之前往往已與真空室內(nèi)的氣體分子發(fā)生過磕碰，其運動方向隨機違背本來的方向，而且濺射一般是從較大靶表面積中射出的，因此比真空鍍膜得到均勻厚度的膜層，對于具有勾槽、臺階等鍍件，能將陰極效應(yīng)形成膜厚不同減小到能夠忽略的程度。但是，較高壓力下濺射會使膜中含有較多的氣體分子。
4、能夠使離子束準確聚焦和掃描，在堅持離子束特性不變的情況下，能夠變換靶材和基片資料，而且能夠獨立控制離子束能量和電流。因為能夠準確地控制離子束的能量、束流巨細與束流方向，而且濺射出的原子能夠不通過磕碰進程而直接堆積薄膜，因此離子束濺射辦法很適合于作為一種薄膜堆積的研究手段。
4.離子束濺射的缺陷
離子束濺射系統(tǒng)的主要缺陷便是轟擊到的靶面積太小，堆積速率一般較低。而且，離子束濺射堆積也不適宜堆積厚度均勻的大面積的薄膜。而且濺射裝置過于雜亂，設(shè)備運行本錢較高。
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